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紫外曝光光源----基于曝光工艺的介绍

作者:东莞康耐德智能控制有限公司 浏览: 发表时间:2021-11-19 11:21:04

紫外曝光光源----基于曝光工艺的介绍

 

在目前的PCBFPC生产众多制程中,曝光是必不可少的一部分,也是极其重要的一道工序。而在所用到的曝光机,能发出高均匀性和高准直度的紫外光的曝光光源是曝光机的核心部件之一。

在暗房中工作人员将PCB电路图打印在图形转移媒介(菲林或掩模版)上,经曝光光源照射将图像转移到感光材料(干膜、湿膜)感光材料上则涂有光刻胶,而光刻胶有正胶与负胶之分

从工艺上划分为正性光刻和负性光刻两种基本工艺。在正性光刻中,正胶的曝光部分吸收光能对聚合物起断链作用,使长链变短,形成易溶于显影液的结构不透光部分不发生反应,显影时用显影液发生断链反应的干膜冲洗掉发生断链反应干膜则保留在板面上作为蚀刻时的保护层使得光刻胶上的图形与掩模版上图形相同。相反地在负性光刻中,负胶的曝光部分吸收光能分解成游离基,游离基再引发光聚合单体进行聚合交联反应,形成不易溶于显影液的大分子结构,不透光部分不发生反应,显影时显影液将未发生聚合反应的干膜冲洗掉,发生聚合反应干膜则保留在板面上作为蚀刻时的保护层使得光刻胶上的图形与掩模版上图形相反。经蚀刻后导电线路图形就出来了。

             

 

针对于以上的曝光工艺的介绍,康耐德UV-LED曝光光源在实际生产过程中能轻松应对不同干膜以及不同油墨,为曝光设备提供有力支撑。在具备曝光光源的核心技术高均匀性和高准直度外,还兼具以下优势:

Ø 严格分选UV_LED灯珠;

Ø 互补式阵列布局,均匀度高;

Ø 全新设计光学透镜,线路解析能力强;

Ø 使用准直透镜技术,确保平行半角≤2°

Ø 多路精细化控制,提高均匀度,均匀度≥90%;

Ø 多波段组合独立可控,实现不同能量配比,满足不同需求;

Ø 操作界面简洁易用;

Ø 光源结构紧凑,占用空间小,易于拆装;

Ø 恒流控制输出,确保光源精准可控,提高工作过程能量的稳定性;

Ø 优良的散热结构设计,水冷和风冷相结合;

Ø 采用热电分离技术,保证光源使用寿命。

 

                

 

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东莞康耐德智能控制有限公司CSRAY)最早成立于2011年(原东莞凯瑞斯),专注于工业机器视觉系统的研发和技术服务。在显示模组涂胶质量检测(包括硅酮胶、面胶、线胶、银胶、侧面封胶等)方面有很深的积累,开发出了相对成熟的涂胶AOI系统。与设备厂商合作,康耐德(CSRAY)涂胶AOI系统已大量应用在各大面板企业产线,为企业赢得了效益。

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