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微电子技术的飞跃发展,使得各种半导体芯片的集成度越来越高,同时芯片的体积趋向于小型化及微型化,这些都对芯片的检测提出了较高的要求。
晶圆是常用的半导体材料,按其直径分为4英寸、5英寸、6英寸、8英寸等规格,工艺水平不同,晶圆可能会在生产阶段出现三种缺陷:冗余物、晶体缺陷和机械损伤,由于电子产品自身的精密性要求,极有必要对晶圆进行100%可靠的检查,及时有效的将不良产品剔除,保证最终的产品质量。
在晶圆处理环节中,硅片检测可以通过康耐德机器视觉系统检测:
表面颗粒/划伤/DIE丢失/破裂/崩边/关键尺寸检测等缺陷,采用前沿的AI目标检测算法,实现全自动检测缺陷并分类标记,检测缺陷的精度可达1微米,兼容性强,适应不同尺寸的晶圆。
通过借助康耐德高精密的机器视觉检测技术来识别晶圆的外观的不良和缺陷,将检测信息反馈至生产环节优化生产工艺,节省企业生产成本,实现良率提升、质量提高,成本控制直接提升了半导体制造厂商的市场竞争能力
如果你有这方面的需求不妨和我们取得联系,我们会根据你的需求定制符合您的方案。
视觉系统在精密电子点胶全流程中扮演着至关重要的角色,是实现高精度、高一致性和高效率生产的核心技术之一。它在点胶工艺的各个环节都发挥着关键作用,确保了微米级别的精度要求。以下是视觉系统在精密电子点胶全流程中的具体应用:
在机器视觉系统设计中,图像传感器的选型是奠定系统性能的基础。尽管CCD(电荷耦合器件)和CMOS(互补金属氧化物半导体)都用于将光信号转换为电信号,但它们在技术路径、性能特点和适用场景上有着显著区别。
在智能制造系统中,存在一个经典的闭环控制流程:感知 > 分析 > 决策 > 执行。CCD机器视觉系统,正是位于最前端的 “感知” 环节,是所有智能活动的起点。
CD视觉检测设备确实是现代工业体系中不可或缺的高精度、高效率检测利器。它如同为生产线装上了永不疲倦的“火眼金睛”,从根本上改变了传统工业检测的面貌。
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