服务热线
0769-28680919
153-2293-3971 / 177-0769-6579
芯片引线键合后涂覆保护胶,是为了防潮、防震、防尘。但这个环节容易出现漏胶、溢胶、气泡、断线等问题,且金线和焊点极为精细微小,必须用高精度的视觉系统来把关。
目前主流的解决方案结合了2D/3D光学成像与AI算法,其系统架构和功能如下:
系统核心架构
高精度光学成像:这是检测的基础。对于引线键合区域,通常需要3微米/像素的高分辨率,并搭配多角度光源,让胶体和金线在不同颜色光下呈现差异,便于区分。而对于胶体本身,还需引入3D激光轮廓仪来测量胶高和胶宽。
核心软件算法:系统通过视觉平台处理图像。传统算法用于基础的斑点、面积和位置检测;AI深度学习则用于处理气泡、飞溅等复杂缺陷。特别地,对于黑色基材上的黑色胶水,AI能实现人眼难以完成的精准检测。
产线集成方式:检测可以是在线飞拍(不停机抓拍,速度快)或离线检测。系统需与MES系统(制造执行系统)打通,一旦发现连续缺陷,可立即向涂胶机报警,实现闭环控制,及时止损。

关键检测指标
这套系统主要围绕胶体和金线两方面进行把关:
胶体缺陷检测
漏胶/少胶:通过计算保护胶覆盖面积是否达标来判定。
溢胶:检测胶水是否扩散到规定区域外,比如覆盖了不需要保护的焊盘。
气泡/飞溅:利用AI算法识别胶水内部的微小气泡或边缘的胶点飞溅。
胶高/胶宽:使用3D视觉测量胶体的实际高度和宽度是否符合工艺标准。
连带损伤检测
断线/塌线:检测极细的金线(φ20-50μm)是否在喷胶压力下被冲断或冲歪。
焊点损伤:确认第一焊点(金球)和第二焊点(鱼尾)在涂胶后依然完整。
实施建议
2D与3D结合:建议初期规划时引入3D视觉。因为胶体是三维的,仅靠2D容易漏检胶高不足等问题,3D能有效避免这部分缺陷流出。
预留AI算力:硬件选型时,工控机建议配置较高性能的显卡。未来处理透明胶体、复杂反光时,深度学习比传统算法适应性更强,维护成本更低。
关注光源选型:这是项目成败的关键。务必要求供应商进行实物打光测试,找到最能凸显缺陷的光源角度和颜色,否则后续算法再强也难以发挥效果。
缺陷复判机制:系统应保留缺陷图片并支持一键复判,帮助快速优化参数,将误报率控制在2%-3% 以内,漏检率低于0.5%,以保证生产顺畅。
康耐德智能晶圆ID机器视觉读取系统
2026-09-29
晶圆ID机器视觉读取系统是半导体制造中用于追溯和过程控制的关键自动化设备。由于晶圆材质反光、字符背景复杂(如氧化膜、金属镀层)以及激光打标深度不一,读取系统通常需要结合光学成像技术、深度学习算法与机械运动控制。
康耐德智能晶圆定位与定向机器视觉识别系统
2026-09-29
晶圆定位与定向是半导体制造中精度要求极高的环节。机器视觉系统在此不仅要识别晶圆是否存在,更要实现微米级甚至亚微米级的对位,以确保光刻、检测、切割等工艺的精准执行。
康耐德智能晶圆是否放置到位机器视觉检测系统
2026-09-29
晶圆放置到位检测是半导体制造中确保工艺良率和设备安全的关键工序。现代机器视觉系统已从传统的2D轮廓检测,发展到融合红外穿透成像、3D激光测量和AI算法的综合解决方案,能精准识别晶圆是否存在位置偏移、叠片、倾斜及槽位错误等问题。
晶圆CMP后刻蚀结构的深度机器视觉测量系统
2026-09-20
在半导体制造中,化学机械抛光(CMP)后的刻蚀结构(如大马士革工艺中的沟槽、通孔或FinFET的鳍片)深度测量,是工艺控制(APC)的关键环节。 针对“晶圆CMP后刻蚀结构深度”的机器视觉测量系统,通常需要突破传统二维成像的限制,转向高精度三维光学测量与先进图像处理算法的结合。
官方公众号
官方抖音号Copyright © 2022 东莞康耐德智能控制有限公司版权所有.机器视觉系统 粤ICP备2022020204号-1 联系我们 | 网站地图