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一颗芯片,从封装到成品,任何微小瑕疵都可能导致整批报废。康耐德四大智能视觉检测系统,为芯片品质保驾护航。

一,HPC塑封外观检测。检测气孔、气泡、粘模、缺边、尺寸偏差。多角度光源+高分辨率相机,微米级精度,2D+3D融合感知,连反光干扰都能克服,稳定检出多种塑封缺陷。
二,四面封胶检测。检测溢胶、断胶、胶厚胶宽异常,系统100%全检。深度学习自动学习封胶特征,即使元件位置偏移,也能精准定位,联动机械手自动剔除不良品,数据回传MES。
三,表面瑕疵检测。检测划伤、颗粒、油污、化学残留,传统规则容易漏检。康耐德采用深度学习模型,复杂背景下精准分割瑕疵,大幅降低误报和漏检,实现高速在线全检。
四,IC缺陷检测。检测引脚缺失、歪斜变形、焊球凹坑、芯片漏底、表面微裂纹,定制光学方案搭配深度学习,精准识别与量化评估,保障IC产品的电气性能和长期可靠性。
四大系统覆盖芯片封装核心环节,全面检测表面缺陷。康耐德用智能机器视觉,守护每一颗“芯”的品质。
康耐德智能晶圆CMP后平坦度机器视觉检测系统
2026-07-31
康耐德智能晶圆CMP后的平坦度检测系统正在从传统的“接触式探针扫描”向“高速光学干涉+AI融合”转变。未来的技术趋势是一体化集成,即在一个机台上同时完成宏观形貌测量(全局平坦度)、微观粗糙度测量以及 缺陷自动光学检测,从而缩短Cycle time并降低晶圆在多个机台间传输带来的污染风险。
康耐德智能晶圆薄膜厚度机器视觉测量系统
2026-07-31
晶圆薄膜厚度测量是半导体制造中的关键工艺控制环节。基于机器视觉的测量系统结合了光学干涉、光谱反射或椭偏原理与图像处理技术的非接触式高精度测量系统。
晶圆接触孔直径机器视觉测量系统
2026-07-25
晶圆接触孔(Contact Hole)直径机器视觉测量系统是半导体制造工艺控制中的核心检测设备。随着制程节点向3nm及以下演进,接触孔的CD(Critical Dimension,关键尺寸)均匀性、圆度以及边缘粗糙度直接影响芯片的导通性、良率和可靠性。
晶圆沟槽深度机器视觉测量系统
2026-07-25
构建一个针对晶圆沟槽深度的机器视觉测量系统,是半导体制造过程中对关键尺寸(Critical Dimension, CD)和形貌进行在线检测的核心需求。
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