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倒装芯片底部填充胶(Underfill)的视觉检测,是确保半导体封装良率和长期可靠性的关键手段。填充胶常见缺陷(如空洞、缺胶、溢胶、分层)直接影响芯片抵抗热应力的能力,传统人工目检已无法满足微米级精度和量产速度要求。

目前主流检测系统采用“2D AOI + 3D测量 + AI智能识别”的多层级融合架构,以实现对各类缺陷的全面覆盖。
1. 检测系统的核心构成与层级
一个完整的底部填充胶视觉检测系统通常包含以下几个关键模块:
2D 光学检测(AOI):利用高分辨率工业相机和定制化光源,拍摄芯片及填充胶区域的二维图像。主要用于检测溢胶、缺胶、爬胶、晶背污染等外观缺陷。通过图像处理算法(如轮廓提取、胶路检测工具),系统能快速判断填充区域是否完整、胶水是否超出限定边界。
3D 轮廓测量:针对芯片和基板间的狭小缝隙,以及胶水成形的三维形态,引入激光轮廓仪或结构光进行3D测量。主要用于检测胶水厚度、填充高度、爬胶高度(如>100µm即判定异常)等关键参数,解决了2D检测无法测量高度的局限性。
AI
智能识别:传统算法对微小、形态多变的缺陷容易误判。AI深度学习模型通过训练上千张包含各种缺陷的样本,能自动学习缺陷特征,精准区分“致命缺陷”(如导致短路的分层)与“可忽略瑕疵”,同时支持根据工艺窗口(如爬胶宽度<100µm)进行弹性判定,大幅降低误报率。
2. 核心检测的缺陷类型与判定标准
检测系统主要针对以下缺陷:
缺胶:填充胶未完全覆盖芯片边缘,可能留有空隙。
溢胶:胶水溢出限定区域(如距芯片边缘超过3mm),可能污染焊盘或影响后续组装。
空洞:胶水内部存在气泡。在声学扫描图像中,空洞区域因空气反射强而呈现亮色或特征形状。
分层:胶层与芯片或基板界面脱离。这是严重的可靠性隐患,C-SAM图像中会呈现出明显的异常反射区域。
爬胶:胶水沿芯片侧壁爬升过高,可能接触并污染键合焊盘。
晶背污染:胶水飞溅或污染到芯片背面,影响散热或外观。
构建一套高效的倒装芯片底部填充胶视觉检测系统,当前的最佳实践是:在线部署2D+3D光学检测系统,对每一颗产品的胶水外观和尺寸进行高速全检,并连接反馈回路;同时,在实验室或质量抽检环节配置声学扫描显微镜,定期验证内部填充质量,以弥补光学方案的盲区。这种组合兼顾了生产效率与可靠性验证的深度需求。
晶圆预对准机器视觉检测系统
2026-11-01
晶圆预对准是半导体制造中光刻、刻蚀、检测等工艺前的关键步骤。其核心目标是在晶圆被传输到工艺腔室(如光刻机工件台)之前,将晶圆的圆心定位到机械手已知的中心位置,并将缺口(Notch)或平边(Flat)旋转到预设的固定角度。
倒装芯片对位凸点高度视觉检测系统
2026-11-01
随着先进封装向高密度、细间距发展,凸点尺寸已缩小至20~100μm,这对检测系统提出了微米乃至亚微米级的分辨力要求。传统接触式测量或2D视觉已无法满足需求,因为它们难以应对高反光、透明或陡峭的凸点表面,也无法提供键合所必需的高度信息。
芯片引线键合焊点机器视觉定位系统
2026-11-01
芯片引线键合焊点机器视觉定位系统是半导体封装后道工序中的核心环节,它通过非接触式的光学成像与图像处理算法,为键合机提供高精度的芯片、焊盘及引线框架的位置坐标,引导劈刀完成微米级的精确键合。随着芯片向高密度、细间距方向发展,视觉定位系统的精度与速度已成为决定封装良率的关键。
芯片MEMS传感器防水密封点胶视觉检测系统
2026-10-22
MEMS传感器对气密性和洁净度要求极高,传统点胶方式难以兼顾微米级精度与良率稳定性。当前主流方案是将高精度喷射阀、多视觉检测与智能工艺闭环整合,实现从定位、点胶到检测的全流程自动化。
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