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从晶圆到芯片是一个复杂的过程,晶圆是制造芯片的基本材料,由高纯度的单晶硅切割而成。芯片则是基于晶圆上制造出的微小电子元件,从晶圆到芯片,机器视觉检测系统贯穿始终,为制造工艺提供了重要的支持和保障。

在晶圆制造阶段,机器视觉检测系统主要用于以下工序:
1.表面检测:通过对晶圆表面进行扫描,检测表面是否存在杂质、划痕、凸起等缺陷。
2.尺寸测量:通过高精度测量系统,对晶圆的直径、厚度、形状等进行测量,确保晶圆尺寸符合要求。
3.表面激光字符识别:利用机器视觉检测系统识别刻写在晶圆表面的字符,包括产品信息、批次号等。
4.晶圆切割:通过机器视觉检测系统对晶圆进行精确切割,确保切割后的芯片尺寸和形状一致。
5.定位与找切割道:利用机器视觉检测系统对晶圆进行精确定位,确保切割道的位置准确,从而提高芯片的良率。
6.缺陷检测:在晶圆制造的各个阶段进行缺陷检测,包括表面缺陷、线宽均匀性等,确保产品质量。
康耐德智能在半导体领域也进行了自主研发,针对晶圆和晶片对位、封装元件切割检测、半导体晶圆切割质量检测、半导体晶片ic表面检测、芯片印刷字符识别都有一系列的机器视觉系统解决方案。
从晶圆到芯片的生产过程中,机器视觉系统发挥着重要的作用。在各个制造工序中,机器视觉系统的应用不仅提高了生产效率,还为产品质量提供了有力保障。
晶圆缺失图案机器视觉检测系统
2026-05-10
晶圆缺失图案(即图案化晶圆)的机器视觉检测,是半导体制造中确保良率的核心环节。它利用光学、图像处理和AI技术,在纳米级尺度上识别晶圆表面的各种图案缺陷。
晶圆金属线短路机器视觉检测系统
2026-05-10
晶圆金属线(互连线)的短路检测,是半导体制造中良率控制的关键环节。随着制程工艺向纳米级(7nm、5nm甚至更先进)发展,金属线宽度仅为几十纳米,间距极小,传统的自动光学检测面临巨大挑战。
晶圆刻蚀残留机器视觉检测系统
2026-05-03
晶圆刻蚀残留检测是半导体制造良率控制的关键环节。由于刻蚀残留缺陷(如未刻透的氧化层、金属残留、聚合物残留)尺寸极小(纳米至微米级),且背景纹理复杂,传统的基于规则或简单模板匹配的机器视觉系统往往难以胜任。
晶圆显影缺陷机器视觉检测系统
2026-05-03
晶圆显影缺陷机器视觉检测系统主要用于显影后检查(ADI, After Develop Inspection),这是光刻工艺中的关键质量控制环节。该系统能够在显影工序完成后,自动检测光刻胶图形的缺陷,包括显影不完全、残留、桥接、缺失图案等问题。
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